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Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium traité Egem série électronique
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Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium traité Egem série électronique

Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium traité Egem série électronique

Annie Baudrant

Parution le 15/02/2011

Résumé

Cet ouvrage propose au lecteur une vision de l'élaboration des couches actives, modifiant la structure de surface du substrat silicium massif : principes de base, mise en applications en fonction des filières technologiques, limites et contraintes, avec un focus sur les dernières avancées. Son objectif n'est pas de faire le tour de la question pour tous les procédés élémentaires d'un assemblage technologique, mais de rappeler les données essentielles et fondamentales seulement pour les procédés qui visent à utiliser et à améliorer les propriétés du matériau ou du semi-conducteur silicium, tant pour les composants électroniques que pour les microsystèmes.Sont ainsi développés l'oxydation silicium, l'implantation ionique, la diffusion et l'épitaxie d'hétérostructures.

Caractéristiques techniques

  PAPIER
Éditeur(s) Hermès - Lavoisier
Auteur(s) Annie Baudrant
Parution 15/02/2011
Format 15 x 23
Couverture Broché
Poids 770g
EAN13 9782746231306
ISBN13 978-2-7462-3130-6

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