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Optical Imaging in Projection Microlithography
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Librairie Eyrolles - Paris 5e
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Optical Imaging in Projection Microlithography

Optical Imaging in Projection Microlithography

Wong Alfred K.

276 pages, parution le 31/03/2005

Résumé

Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.

Caractéristiques techniques

  PAPIER
Éditeur(s) Spie press,ltd ,us
Auteur(s) Wong Alfred K.
Parution 31/03/2005
Nb. de pages 276
EAN13 9780819458292

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