Nano-CMOS Circuit and Physical Design
Ban P. Wong, Anurag Mittal, Yu Cao, Greg Starr
Résumé
Based on the authors' expansive collection of notes taken over the years, Nano-CMOS Circuit and Physical Design bridges the gap between physical and circuit design and fabrication processing, manufacturability, and yield. This innovative book covers: process technology, including sub-wavelength optical lithography; impact of process scaling on circuit and physical implementation and low power with leaky transistors; and DFM, yield, and the impact of physical implementation.
Sommaire
- Nano-CMOS scaling problems and implications
- Process Technology and Subwavelength Optical Lithography: Physics, Theory of Operation, Issues, And Solutions
- Theory and Practicalities Of Subwavelength Optical Lithography
- Process Scaling Impact on Design 4 Mixed-Signal Circuit Design
- Electrostatic Discharge Protection Design
- Input/Output Design
- DRAM
- Signal Integrity Problems In On-Chip Interconnects
- Ultralow Power Circuit Design
- Impact of Physical Design on Manufacturing/Yield And Performance
- Design for Manufacturability
- Design for Variability
Caractéristiques techniques
| PAPIER | |
| Éditeur(s) | Wiley |
| Auteur(s) | Ban P. Wong, Anurag Mittal, Yu Cao, Greg Starr |
| Parution | 11/01/2005 |
| Nb. de pages | 394 |
| Format | 16 x 24 |
| Couverture | Relié |
| Poids | 710g |
| Intérieur | Noir et Blanc |
| EAN13 | 9780471466109 |
| ISBN13 | 978-0-471-46610-9 |
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